特許
J-GLOBAL ID：200903080420475402
フォトマスク欠陥解析装置および欠陥解析方法ならびに該欠陥解析プログラムを記録した記録媒体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-113216
公開番号（公開出願番号）：特開平10-301258
出願日： 1997年04月30日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：
【要約】【課題】 実際のフォトマスク欠陥に関する各種情報を精度よく取り込み、かつ系統的な欠陥解析を迅速・容易に行うことができるフォトマスク欠陥解析装置、欠陥解析方法、欠陥解析プログラムを記録した記録媒体を提供すること。【解決手段】 欠陥観察ユニット1においてフォトマスクパターン4およびその欠陥情報を欠陥観察部6に取り込み、観察画像記録部7へ記憶すると共に、観察画像出力部8から欠陥解析ユニット10へ受け渡す。欠陥解析ユニット10は、欠陥画像抽出処理部12にて、受け取った画像情報から欠陥部分とパターン部分の画像情報をそれぞれ分離し、欠陥データ変換部13aとパターンデータ変換部13bにて各々適宜データ変換した後、該フォトマスクパターンと欠陥画像データとをパターンデータ合成部15にて合成し、光強度シミュレーション部16にてシミュレーションを行った後、データ解析部17にてその結果を解析する。
請求項（抜粋）：
フォトリソグラフィ工程におけるフォトマスク上の欠陥の露光転写への影響を解析するためのフォトマスク欠陥解析装置において、前記フォトマスクパターン上の欠陥を含むパターン部分の画像情報を出力する画像出力手段と、前記画像出力手段から出力された欠陥を含むパターン画像情報から、欠陥部分の画像情報とパターン部分の画像情報とに分離抽出する画像分離抽出手段と、前記抽出分離された欠陥部分の画像情報に対し、拡大・縮小または変形等の画像処理を行い、かつ、該画像情報を光強度シミュレーションを行うためのシミュレーション用データに変換する欠陥データ変換手段と、前記欠陥データ変換手段により変換された欠陥部分のシミュレーション用データと、予め記憶しているマスクパターンのシミュレーション用データとを合成するデータ合成手段と、前記データ合成手段により合成されたデータに基づいて光強度シミュレーションを実施し、シミュレーション結果を解析するシミュレーション手段とを備えたことを特徴とするフォトマスク欠陥解析装置。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 V
, G03F 1/08 W
, H01L 21/30 502 V
