基板処理装置および基板処理システム

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-247780
公開番号（公開出願番号）：特開2002-064044
出願日： 2000年08月17日
公開日（公表日）： 2002年02月28日
要約：

【要約】【課題】装置内を陽圧に維持することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置1には、塗布処理ユニットSC1、現像処理ユニットSD1およびそれらに付随する加熱ユニットHP1等や冷却ユニットCP1等が処理ユニットとして設けられている。また、搬送路10に設置された搬送ロボットTRによってこれら複数の処理ユニットに対して基板が循環搬送される。基板処理装置1においては、これら複数の処理ユニットの全ておよび搬送路10から排気される合計排気量以上の供給量にてクリーンエア供給部20が清浄化空気を供給する。従って、基板処理装置1の内部は常に装置周辺の雰囲気(クリーンルームの雰囲気)よりも気圧の高い陽圧状態となる。その結果、パーティクルを含む装置外部の雰囲気が基板処理装置1の内部に混入するおそれがなくなり、装置内部は常に周辺のクリーンルーム環境よりも清浄な状態に維持される。

請求項（抜粋）：

複数の処理ユニットと、搬送路に配置されて前記複数の処理ユニット間で基板の搬送を行う搬送ロボットとを備えた基板処理装置であって、前記装置全体に清浄化空気を供給する空気供給手段を備え、前記空気供給手段は、前記複数の処理ユニットの全ておよび前記搬送路から排気される合計排気量以上の供給量にて清浄化空気を供給することを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , H01L 21/205 , H01L 21/3065 , H01L 21/68

FI (4件)：

H01L 21/205 , H01L 21/68 A , H01L 21/30 562 , H01L 21/302 B

Fターム (34件)：

5F004AA16 , 5F004BB25 , 5F004BB26 , 5F004BC05 , 5F004BC06 , 5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031MA02 , 5F031MA03 , 5F031MA06 , 5F031MA24 , 5F031MA26 , 5F031MA27 , 5F031MA30 , 5F031NA03 , 5F031NA07 , 5F031NA16 , 5F031NA17 , 5F045BB14 , 5F045EB08 , 5F045EB09 , 5F045EB10 , 5F045EB19 , 5F045EE01 , 5F045EG01 , 5F045EN02 , 5F045EN04 , 5F045GB06 , 5F046AA28 , 5F046CD05 , 5F046CD10 , 5F046JA07 , 5F046KA04 , 5F046LA07

引用特許：

審査官引用 (9件)

処理装置および該装置における清浄エアの供給方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-375585 出願人：東京エレクトロン株式会社
処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-031249 出願人：東京エレクトロン株式会社
リソグラフィシステム
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-103814 出願人：株式会社ニコン

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