特許

J-GLOBAL ID：200903080542628692

熱プラズマによる加熱処理装置

発明者： 井上 好明 ,  横田 誠二 ,  寺島 章 ,  川嵜 一博
出願人/特許権者： 高周波熱錬株式会社 ,  株式会社東芝
代理人 (1件)： 八島 正人 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-356652
公開番号（公開出願番号）：特開平10-189291
出願日： 1996年12月27日
公開日（公表日）： 1998年07月21日
要約：

【要約】【課題】 物質合成や粒体の球状化などに使用する、低温の均一温度領域の広いプラズマフレームが得られる熱プラズマによる加熱処理装置。【解決手段】 熱プラズマにより被処理材料を加熱処理する装置において、熱プラズマを発生する熱プラズマトーチ11と、該プラズマトーチ11により発生した熱プラズマ1を加熱制御するプラズマフレーム炉21と、被処理材料を加熱反応させる反応塔31と、前記被処理材料を前記反応塔内に供給する供給手段41とを備える。

請求項（抜粋）：

熱プラズマにより被処理材料を加熱処理する装置において、熱プラズマを発生する熱プラズマトーチと、該プラズマトーチにより発生した熱プラズマを加熱制御するプラズマフレーム炉と、被処理材料を加熱反応させる反応塔と、前記被処理材料を前記反応塔内に供給する供給手段とを備えたことを特徴とする熱プラズマによる加熱処理装置。

IPC (8件)：

H05H 1/34 ,  B22F 1/00 ,  B22F 9/14 ,  C01B 33/02 ,  C09K 11/08 ,  C23C 4/12 ,  D06M 10/00 ,  H05B 7/00

FI (9件)：

H05H 1/34 ,  B22F 1/00 A ,  B22F 9/14 Z ,  C01B 33/02 E ,  C09K 11/08 A ,  C23C 4/12 ,  D06M 10/00 ,  H05B 7/00 Z ,  D06M 10/00 G

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 蛍光体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-270222   出願人：株式会社東芝, 高周波熱錬株式会社
• 特開昭63-198299
  
• 特開平2-203932
  
• 球状シリカ粒子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-095135   出願人：日東化学工業株式会社, 高周波熱錬株式会社
• 特開平4-246104