2,2’-ジ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)の製造法、該化合物及び該化合物の使用

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト , ラインハルト・アインゼル
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-409406
公開番号（公開出願番号）：特開2004-224790
出願日： 2003年12月08日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：

【課題】低温の使用、即ち冷却混合物又は外部冷却のための同様のものを省略し、保護ガス技術なしで空気下での実行を可能にし、例えばエチレン架橋上で官能基置換された2,2’-ジ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)又は別の置換されていてもよい他の2,2’-ジ(3,4-アルキレンジオキシチオフェン)を製造するための幅広い適用可能性を提供する。【解決手段】一般式(II)の化合物を脱水素剤と反応させることによる、2,2’-ジ(3,4-アルキレンジオキシチオフェン)の製造法。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

一般式(I)

IPC (3件)：

C07D519/00 , C08G61/12 , H01L51/00

FI (3件)：

C07D519/00 , C08G61/12 , H01L29/28

Fターム (7件)：

4C072MM08 , 4C072UU08 , 4J032BA04 , 4J032BA05 , 4J032BB01 , 4J032BB03 , 4J032BC21

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平3-068622
光電変換素子
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-291395 出願人：富士写真フイルム株式会社
チオフェン化合物及び導電性高分子
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-012766 出願人：工業技術院長, スタンレー電気株式会社

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引用文献：

審査官引用 (3件)

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