特許

J-GLOBAL ID：200903080586639373

基板処理装置

発明者： 志摩 泰正
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-234538
公開番号（公開出願番号）：特開平10-079368
出願日： 1996年09月04日
公開日（公表日）： 1998年03月24日
要約：

【要約】【課題】 処理液中に混入するパーティクルの発生を防止して基板への汚染を防止する。【解決手段】 シャワーパイプ4を回動させつつ処理液を基板1上に供給する際に、従来のようなメカニカルシールを用いると、メカニカルシールの内部で擦れなどによりパーティクルが発生するが、このようなメカニカルシールを用いず、多少伸縮自在で可撓性のある各処理液供給管8を介して処理液を各シャワーパイプ4にそれぞれ直接供給しているので、処理液中に混入するパーティクルの発生は防止されて基板への汚染も防止することができる。

請求項（抜粋）：

搬送されてくる基板の上方でシャワーパイプをシャワーパイプの長手方向と交叉する方向に揺動または回動させつつ前記シャワーパイプから基板面に処理液を供給して処理を行う基板処理装置において、前記シャワーパイプに接続されている処理液供給管の少なくともその一部を可撓性を有する構成としたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

H01L 21/304 341 ,  B08B 3/02 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306

FI (5件)：

H01L 21/304 341 N ,  B08B 3/02 A ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 D ,  H01L 21/306 R

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 洗浄方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-295683   出願人：株式会社日立製作所