特許

J-GLOBAL ID：200903080607689406

光分散補償器、及びこれを用いた光パルス発生装置並びに光通信システム

発明者： 李 英根
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-204487
公開番号（公開出願番号）：特開平10-048567
出願日： 1996年08月02日
公開日（公表日）： 1998年02月20日
要約：

【要約】【課題】 超小型、低価格、安定、かつ他の装置との結合性がよい透過型光分散補償器を実現することにある。【解決手段】 誘電体多層膜により形成された共振器を有する透過型光分散補償器を構成する。これにより、共振器構造の高反射領域に隣接する透過領域のスペクトル幅は100フェムト秒から10ピコ秒の光パルスの分散補償を行うに十分な広さになる。この誘電体多層膜構造からなる共振器は、単一共振器構造または結合型共振器構造として形成される。【効果】 誘電体多層膜構造からなる共振器構造において、高反射領域に隣接する透過領域は大きな分散効果を示すため、スペクトル幅の広い、例えば100フェムト秒オーダーの光パルスの分散補償が可能となる。

請求項（抜粋）：

100フェムト秒から10ピコ秒の時間幅を有する光パルスに生じる該光パルスの群速度の波長依存性(分散)によるパルス時間幅の拡がりや波形劣化を誘電体多層膜からなる共振器を透過させることにより補償することを特徴とする光分散補償器。

IPC (4件)：

G02B 27/09 ,  G02B 5/18 ,  G02B 6/00 306 ,  H01S 3/05

FI (4件)：

G02B 27/00 E ,  G02B 5/18 ,  G02B 6/00 306 ,  H01S 3/05

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 半導体光集積素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-034918   出願人：株式会社日立製作所