特許
J-GLOBAL ID：200903080619025503

ブラックマトリックス基板の製造方法

発明者：
栗田 英徹

栗田 英徹 について

, 
金谷 隆一郎

金谷 隆一郎 について


出願人/特許権者：
旭化成エレクトロニクス株式会社

旭化成エレクトロニクス株式会社 について


代理人 (4件)： 鳴井 義夫 ,  清水 猛 ,  伊藤 穣 ,  武井 英夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-207118
公開番号（公開出願番号）：特開2007-025243
出願日： 2005年07月15日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：
【課題】 光重合性樹脂積層体を用いて、基板の汚れが発生することなく、高い光学濃度を有しながら高解像度でブラックマトリックスパターンを形成すること。【解決手段】少なくとも光重合性樹脂層と支持フィルムからなる光重合性樹脂積層体を用いたブラックマトリックス基板の製造方法であって、基板上への光重合性樹脂積層体の積層工程、積層した光重合性樹脂積層体の光重合性樹脂層が60〜140°Cとなるように加熱する加熱工程、支持フィルム側からパターン露光する露光工程、支持フィルムを剥離して現像を行う現像工程を順次行ってなるブラックマトリックス基板の製造方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
少なくとも光重合性樹脂層と支持フィルムからなる光重合性樹脂積層体を用いたブラックマトリックス基板の製造方法であって、基板上への光重合性樹脂積層体の積層工程、積層した光重合性樹脂積層体の光重合性樹脂層が60〜140°Cとなるように加熱する加熱工程、支持フィルム側からパターン露光する露光工程、支持フィルムを剥離して現像を行う現像工程を順次行ってなるブラックマトリックス基板の製造方法。
IPC (5件)：
G02B 5/20 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/38 ,  G03F 7/031 ,  G03F 7/032
FI (7件)：
G02B5/20 101 ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/38 501 ,  G03F7/38 511 ,  G03F7/031 ,  G03F7/032 ,  G03F7/004 505
Fターム (33件)：
2H025AB13 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC51 ,  2H025CA01 ,  2H025CA20 ,  2H025CA22 ,  2H025CA28 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB43 ,  2H025CC11 ,  2H025EA08 ,  2H025FA01 ,  2H025FA12 ,  2H048BA02 ,  2H048BA11 ,  2H048BA48 ,  2H048BB01 ,  2H048BB42 ,  2H096AA27 ,  2H096AA28 ,  2H096BA05 ,  2H096BA20 ,  2H096CA16 ,  2H096DA01 ,  2H096EA02 ,  2H096FA10 ,  2H096JA02 ,  2H096JA03
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (4件)
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