表面還元を用いたフェライトの金属化方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：三俣弘文
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-180527
公開番号（公開出願番号）：特開平9-020580
出願日： 1995年06月26日
公開日（公表日）： 1997年01月21日
要約：

【要約】【目的】表面還元を用いたフェライトの金属化方法を提供する。【構成】本発明の表面還元処理を用いてフェライトを含むセラミック体を金属化する方法によれば、フェライトを含むセラミック表面は加熱する。少なくともフェライトの部分は、第1温度で、還元性ガスに接触させて、フェライトから酸素を除去することによって金属領域を形成する。その後、表面は冷却され、必要であれば、金属領域の粘着力を増強するポスト処理を施す。代表的な還元性ガスは水素とフォーミングガス、及びそれらの混合であり、代表的なフェライトはNi-Znフェライト及びMn-Znフェライトである。パターン領域を形成するために、基板の部分はマスクされ、または還元表面層の一部を除去する方法により行われる。

請求項（抜粋）：

フェライトを含むセラミック体(10)を有する素子を製造する方法において、前記フェライトを含むセラミック体を提供するステップと、前記フェライトを含むセラミック体を加熱するステップと、第1温度で少なくとも前記セラミック体の表面の一部(30)を還元性ガスに接触させるステップと、を有し、前記第1温度の設定と接触は、所望の厚さの金属化層が得られるように、所望の厚さの層のフェライトから酸素を除去するように、行われることを特徴とする素子の製造方法。

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開昭62-292682
特開平2-030751
特開昭63-085078

全件表示

前のページに戻る