セラミツク表面への金属膜形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：松本武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-243842
公開番号（公開出願番号）：特開平5-078185
出願日： 1991年09月24日
公開日（公表日）： 1993年03月30日
要約：

【要約】【目的】セラミック表面に粗化や下地層を施さずに金属膜を高い密着力で形成することのできる方法を提供する。【構成】非酸化性雰囲気中でセラミック表面に対し分解処理および/または還元処理を施すことにより、前記セラミック表面を金属原子に富む状態にしておいて、このセラミック表面に金属膜を形成するようにする。

請求項（抜粋）：

非酸化性雰囲気中でセラミック表面に対し分解処理および/または還元処理を施すことにより、前記セラミック表面を金属原子に富む状態にしておいて、このセラミック表面に金属膜を形成するようにするセラミック表面への金属膜形成方法。

IPC (4件)：

C04B 41/88 , B01J 19/08 , C23C 14/02 , C23C 16/02

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭63-139073
特開昭62-270479
特開昭59-018184

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