特許
J-GLOBAL ID:200903080736444568

水素同位体の分離・回収方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 北谷 寿一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-313017
公開番号(公開出願番号):特開平11-137969
出願日: 1997年11月14日
公開日(公表日): 1999年05月25日
要約:
【要約】【課題】 小型の装置でありながら高い効率で高濃度の水素同位体を回収することのできる水素同位体回収方法及びその装置を提供する。【解決手段】 同位体を混合している水素ガスを第1吸着塔(1)に供給して軽水素吸着剤(2)に混合水素ガスを吸蔵させる。第1吸着塔(1)を温度制御して軽水素吸着剤(2)に吸蔵させた混合水素ガスを脱着させて第2吸着塔(3)に移動し、第2吸着塔(3)の同位体吸着剤(4)に吸蔵させる。第2吸着塔(3)を温度制御して同位体吸着剤(4)に吸蔵させた混合水素ガスを脱着させ第1吸着塔(1)に移送する。上記の工程を繰り返して第1吸着塔(1)内に水素同位体を濃縮する。第1吸着塔(1)内で濃縮された水素同位体を製品ガスとして取り出す。第2吸着塔(3)内で分離された軽水素ガスを系外に排出する。回収ガス量及び排出ガス量との合計量の原料ガスを追加供給し、上記の操作を連続的に繰り返す。
請求項(抜粋):
軽水素を優先的に吸蔵する軽水素吸着剤(2)を充填してなる第1吸着塔(1)と、水素同位体を優先的に吸蔵する同位体水素吸着剤(4)を充填してなる第2吸着塔(3)と並置し、同位体を混合している水素ガスを第1吸着塔(1)に供給し、軽水素吸着剤(2)に同位体混合水素ガスを吸蔵させる吸着工程と、軽水素の吸蔵後に第1吸着塔(1)を温度制御して軽水素吸着剤(2)に吸蔵させた同位体混合水素ガスを脱着させたのち、この同位体混合水素ガスを第2吸着塔(3)に移動させて、同位体混合水素ガスを同位体水素吸着剤(4)に吸蔵させる同位体水素吸着工程と、水素同位体の吸着後に第2吸着塔(3)を温度制御して同位体水素吸着剤(4)に吸蔵させた同位体混合水素ガスを脱着させたのち、この同位体混合水素ガスを第1吸着塔(1)に移送する返送工程と、この軽水素吸着工程、同位体水素吸着工程、返送工程を繰り返して第1吸着塔(1)内に水素同位体を濃縮する濃縮工程と、第1吸着塔(1)から濃縮分離された水素同位体を製品ガスとして取り出して回収貯蔵容器(17)に貯蔵する回収工程と、第2吸着塔(3)内で分離された軽水素ガスを排出ガスとして系外に排出する排気工程と、回収ガス量及び排出ガス量との合計量の原料ガスを追加する原料供給工程とからなる特徴とする水素同位体の分離・回収方法。
IPC (4件):
B01D 59/26 ,  B01J 20/02 ,  B01J 20/18 ,  C01B 4/00
FI (4件):
B01D 59/26 ,  B01J 20/02 C ,  B01J 20/18 E ,  C01B 4/00 Z
引用特許:
審査官引用 (7件)
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