レジスト材料及びレジストパターンの形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石田敬 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-112698
公開番号（公開出願番号）：特開平10-301285
出願日： 1997年04月30日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：

【要約】【課題】高解像性、高感度及び優れたドライエッチング耐性に加えて、優れた環境耐性を具えた化学増幅型レジスト材料を提供することを目的とする。【解決手段】保護基により保護されたアルカリ可溶性基を有し、そしてそのアルカリ可溶性基が酸により脱離して当該化合物をアルカリ可溶性とならしめる構造単位を含む酸感応性化合物と、放射線露光により酸を発生する酸発生剤とに加えて、ニトリル化合物をさらに含むように構成する。

請求項（抜粋）：

保護基により保護されたアルカリ可溶性基が酸により脱離して当該化合物をアルカリ可溶性とならしめる構造単位を有する酸感応性化合物と、放射線露光により酸を発生する酸発生剤とを含む化学増幅型レジスト材料において、ニトリル化合物をさらに含んでなることを特徴とする化学増幅型レジスト材料。

IPC (6件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/38 511 , H01L 21/027 , H01L 21/312

FI (7件)：

G03F 7/039 601 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/38 511 , H01L 21/312 D , H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 568

引用特許：

審査官引用 (1件)

感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-054398 出願人：株式会社東芝

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