特許

J-GLOBAL ID：200903080886812271

基板の表面処理方法

発明者： 野村 幸生 ,  大竹 忠 ,  武部 尚子 ,  上村 強 ,  小川 一文
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 大前 要
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-129194
公開番号（公開出願番号）：特開2001-300454
出願日： 2000年04月28日
公開日（公表日）： 2001年10月30日
要約：

【要約】【課題】清浄化処理された基板面を再汚染されることなく保管し、基板面の清浄状態を保持して膜形成が可能な基板の表面処理方法を提供する。【解決手段】本発明の基板の表面処理方法は、基板上に存在する汚染物質を除去することにより、該基板表面を清浄にする清浄化工程S1と、前記基板を保管用液体中に浸漬して当該基板を保管する基板保管工程S2と、前記基板表面に膜を形成する膜形成工程S4とを含む。これにより、清浄化された基板面が再汚染されるのを防止して保管することができ、更に清浄状態を維持して膜形成を行うことができる。

請求項（抜粋）：

基板上に存在する汚染物質を除去することにより、該基板表面を清浄にする清浄化工程と、前記基板を保管用液体中に浸漬して当該基板を保管する基板保管工程と、前記基板表面に膜を形成する膜形成工程と、を少なくとも含むことを特徴とする基板の表面処理方法。

IPC (4件)：

B08B 7/04 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 651

FI (4件)：

B08B 7/04 Z ,  H01L 21/304 645 D ,  H01L 21/304 645 C ,  H01L 21/304 651 L

Fターム (9件)：

3B116AA03 ,  3B116BB03 ,  3B116BB82 ,  3B116BB88 ,  3B116BB89 ,  3B116BC01 ,  3B116CC01 ,  3B116CC03 ,  3B116CC05