特許

J-GLOBAL ID：200903080920742458

イオン注入装置

発明者： 西川 和宏
出願人/特許権者： 日新電機株式会社
代理人 (1件)： 山本 惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-020709
公開番号（公開出願番号）：特開平6-215724
出願日： 1993年01月13日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：

【要約】【目的】 静電走査に伴うイオンビームのビームサイズの変化を小さくして、ターゲットに対する注入均一性を向上させることができるようにしたイオン注入装置を提供する。【構成】 走査電源14a内に、直流のオフセット電源24と、それからの正の電圧をインバータ18からの出力電圧および信号発生器16からの出力電圧にそれぞれ加算するアナログ加算器26および28を追加した。そして、両加算器26および28からの出力電圧を高電圧アンプ20および22でそれぞれ増幅して走査電圧V3 およびV4 を作り、これを走査電極4および6に印加するようにした。この走査電圧V3 およびV4 は、三角波形の走査電圧に同じ極性かつ同じ大きさのオフセット電圧をそれぞれ加えたものとなる。

請求項（抜粋）：

相対向する一対の走査電極を有し、この両走査電極に180度位相の異なる走査電圧をそれぞれ印加してイオンビームを静電的に走査するようにしたイオン注入装置において、直流のオフセット電源を設けて、前記両走査電極に印加される走査電圧に、互いに同じ極性のオフセット電圧をそれぞれ加えるようにしたことを特徴とするイオン注入装置。

IPC (4件)：

H01J 37/317 ,  C23C 14/48 ,  C23C 14/54 ,  H01L 21/265

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-007341
  
• イオン注入装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-185100   出願人：三菱電機株式会社
• 特開昭63-045744
  
• 特開昭58-147949