特許
J-GLOBAL ID:200903080932794836
水処理装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
石川 泰男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-355625
公開番号(公開出願番号):特開2004-188239
出願日: 2002年12月06日
公開日(公表日): 2004年07月08日
要約:
【課題】管路系の圧力損失が少なく、有害物質の分解処理性能に優れ、且つ、短時間で高い分解処理が可能となる。【解決手段】被処理液が流れる流水管路1にベンチュリ管2が配置された水処理装置において、ベンチュリ管2よりも上流側に酸化性溶液の注入口4を設けると共に、ベンチュリ管2よりも下流側に超音波チューブ3を設ける。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被処理液が流れる流水管路に、上流側から絞り部、のど部および広がり部が形成されたベンチュリ管が取り付けられた水処理装置において、
前記ベンチュリ管よりも上流側に設けた酸化性溶液の注入口と、前記ベンチュリ管よりも下流側に設けた、前記流水管路内を流れる被処理液に超音波を照射する超音波照射手段とを備えたことを特徴とする水処理装置。
IPC (5件):
C02F1/36
, C02F1/50
, C02F1/72
, C02F11/00
, C02F11/06
FI (11件):
C02F1/36
, C02F1/50 510A
, C02F1/50 520P
, C02F1/50 531Q
, C02F1/50 540B
, C02F1/50 550C
, C02F1/50 550H
, C02F1/50 560Z
, C02F1/72 Z
, C02F11/00 Z
, C02F11/06 B
Fターム (20件):
4D037AA11
, 4D037AB03
, 4D037AB11
, 4D037AB14
, 4D037AB16
, 4D037BA26
, 4D037CA11
, 4D050AA13
, 4D050AB06
, 4D050AB15
, 4D050AB19
, 4D050BB09
, 4D050BD03
, 4D050BD06
, 4D050CA20
, 4D059AA00
, 4D059BC05
, 4D059BK13
, 4D059BK22
, 4D059DA44
引用特許:
審査官引用 (3件)
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排水処理反応装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-198412
出願人:三菱電機株式会社
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特開昭63-077592
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下水二次処理水のオゾン消毒方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-018573
出願人:富士電機株式会社
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