特許
J-GLOBAL ID:200903081029853369

半導体レーザ

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 恩田 博宣
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-288464
公開番号(公開出願番号):特開平7-142810
出願日: 1993年11月17日
公開日(公表日): 1995年06月02日
要約:
【要約】【目的】 高温作動時において活性層内の電子がpクラッド層内にオーバフローすることを抑制するとともに、発光強度分布の対称性を保つことができる半導体レーザを提供することにある。【構成】 n-GaAs基板1上に、n-AlGaAsクラッド層2、多重量子障壁活性層5、p-AlGaAsクラッド層6、p+ -GaAsコンタクト層7が順に積層されている。多重量子障壁活性層5は、i-GaAs活性層3と多重量子障壁層4とi-GaAs活性層3との積層構造からなる。この多重量子障壁層4は、i-AlGaAs障壁層4aとi-GaAs井戸層4bがこの順に交互に合計7層積層されたものである。i-AlGaAs障壁層4aはi-GaAs活性層3よりバンドギャップが大きく、i-GaAs井戸層4bは障壁層4aよりバンドギャップが小さい。
請求項(抜粋):
活性層の上下が、異なる導電型の混晶層よりなるクラッド層で挟まれた半導体レーザにおいて、前記活性層内に量子障壁層を設けたことを特徴とする半導体レーザ。
引用特許:
審査官引用 (4件)
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