特許

J-GLOBAL ID：200903081050116986

オーバレイマークを設計する方法

発明者： ナイジェル・ピーター・スミス ,  コ・チュン-フン ,  ク・イ-シャ ,  ワン・シー・チュン
出願人/特許権者： アクセント・オプティカル・テクノロジーズ・インコーポレイテッド ,  インダストリアル・テクノロジー・リサーチ・インスティテュート
代理人 (3件)： 河宮 治 ,  石野 正弘 ,  稲葉 和久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-346110
公開番号（公開出願番号）：特開2006-157023
出願日： 2005年11月30日
公開日（公表日）： 2006年06月15日
要約：

【課題】 高感度を有し、オーバレイ測定の改善された精度を提供するスキャトロメトリシステム及び方法を提供する。【解決手段】 スキャトロメトリ測定で使用するオーバレイターゲットグレーティングの設計方法は、A)サンプル層パラメータを選択し、B)第1ターゲット特性を有する第1ターゲットグレーティングを選択し、C)入射光の角度範囲にわたって第1ターゲット特性のオーバレイオフセット変化の標準偏差を平均して、数学モデル化ターゲットでの反射光のASDを計算し、D)第1増分によって第1ターゲットグレーティング特性をシフトさせ、E)ステップCから繰り返して、F)ステップCとステップEのASDを比較し、大きい方を新たな開始グレーティング特性とし、G)最大の所望のASDが得られるまで、ステップC-Fを繰り返し、H)実際のターゲットを、上記ASDと対応するターゲットグレーティング特性を有するように設計する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

A 1以上の層の材料、膜厚、層の上にパターン化された部材の側壁の角度を含むサンプル層パラメータを少なくとも一つ選択し、 B 以下のステップで変化する第1ターゲット特性を有する第1ターゲットグレーティングを選択し、 C 入射光の角度範囲にわたって第1ターゲット特性のオーバレイオフセット変化の標準偏差を平均することによって、第1ターゲットグレーティング特性を持つ数学的にモデル化されたターゲットで反射された光の平均標準偏差を計算し、 D 第1の増分によって第1ターゲットグレーティング特性をシフトさせ、 E ステップCから繰り返して、 F ステップCからのASDとステップEからのASDとを比較して、どちらが大きいか決定し、より大きなASDターゲットグレーティング特性を新たな開始グレーティング特性とし、 G 最大の所望のASDが得られるまで、ステップCからステップFまで反復プロセスを繰り返し、 H 基板上で使用される実際のターゲットを、最大の所望のASDと対応する特性と実質的に等しいターゲットグレーティング特性を有するように設計する、 上記各ステップを含む、サンプルのスキャトロメトリ(scatterometry)測定で使用するオーバレイ・ターゲットグレーティングを設計する方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/02 ,  G03F 9/00 ,  G03F 1/08

FI (7件)：

H01L21/30 522D ,  G01B11/02 G ,  G03F9/00 H ,  H01L21/30 525W ,  H01L21/30 525Z ,  G03F1/08 A ,  G03F1/08 N

Fターム (20件)：

2F065AA30 ,  2F065CC17 ,  2F065DD04 ,  2F065FF41 ,  2F065FF48 ,  2F065FF49 ,  2F065LL42 ,  2F065LL67 ,  2F065MM16 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ18 ,  2F065UU01 ,  2F065UU05 ,  2H095BB02 ,  2H095BE03 ,  5F046EA07 ,  5F046EB01 ,  5F046FA05 ,  5F046FA06 ,  5F046FC04

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特許第6819426号
  
• マーク設計システム、マーク設計方法、マーク設計プログラムおよびこのマーク設計方法を用いた半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-233927   出願人：株式会社東芝