特許
J-GLOBAL ID：200903081065312161
マイクロレンズの製造方法および装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-513119
公開番号（公開出願番号）：特表平8-504515
出願日： 1993年10月15日
公開日（公表日）： 1996年05月14日
要約：
【要約】あらゆる設計形状のマイクロレンズがレプリカとしてフォトレジスト材に形成され、このフォトレジスト材のレプリカは基材に直接にレプリカを形成することに使用される。
請求項（抜粋）：
単一露光マスクを使用してあらゆる設計形状のマイクロレンズのレプリカをフォトレジスト材に複製する方法であって、 十分に小さな特定の開口寸法を有して形成されるとともに、設計マイクロレンズ形状における位置と関係を有する十分に多数の特定位置に配置されて、設計マイクロレンズのレプリカ像をフォトレジスト材中に形成できるようにする複数の正確な位置に配置され且つ寸法決めされた光伝達開口を有する露光マスクを構成し、 選択した波長の、前記単一マスクの前記開口を通して伝達された光で関係するフォトレジスト材を選択した時間にわたって露光し、 設計マイクロレンズのフォトレジスト材に、しかる後に基材に設計マイクロレンズを形成するために使用できるレプリカを形成するために、露光されたフォトレジスト材を処理する諸段階を含むことを特徴とするマイクロレンズのレプリカをフォトレジスト材に複製する方法。
IPC (3件)：
G02B 3/08
, B29D 11/00
, G03F 1/08
