ショットマップ作成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊東忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-036700
公開番号（公開出願番号）：特開2001-230181
出願日： 2000年02月15日
公開日（公表日）： 2001年08月24日
要約：

【要約】【課題】スループットをより向上することができるショットマップ作成方法を提供する。【解決手段】ショット領域50は、モニタ用チップ52aおよび製品用チップ52b〜52dからなるチップパターン52a〜52dが形成される。モニタ用チップ52aは、複数個のショット領域50の中心Sから最も遠い位置に配置される。ウェハ12上の有効露光領域34内に位置する製品用チップ52b〜52dの数が最大となるように、複数個のショット領域50の配列を定める。

請求項（抜粋）：

レチクル上に形成されたマスクパターンを描写して基板上にチップパターンを形成する複数個のショット領域の配列を定めるためのショットマップ作成方法において、該複数個のショット領域にはそれぞれ複数個のチップを切り出すための該チップパターンが形成され、該基板上の有効露光領域内であってかつ有効基板領域内に位置するチップの数が最大となるように、該複数個のショット領域の配列を定めることを特徴とするショットマップ作成方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/22

FI (2件)：

G03F 7/22 H , H01L 21/30 514 B

Fターム (6件)：

5F046AA28 , 5F046BA04 , 5F046CC14 , 5F046DA07 , 5F046DD03 , 5F046DD06

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-218908
特開昭58-107633
特開昭62-072155

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