特許

J-GLOBAL ID：200903081177756232

添加剤、化合物の製造方法、フォトレジスト組成物、フォトレジストパターン形成方法、及び、半導体素子

発明者： 鄭 載昌 ,  孔 根圭 ,  李 根守 ,  白 基鎬
出願人/特許権者： 現代電子産業株式会社
代理人 (1件)： 荒船 博司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-261342
公開番号（公開出願番号）：特開2001-142216
出願日： 2000年08月30日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【課題】 フォトレジスト組成物のPED安定性を確保することができる添加剤を提供する。【解決手段】 適切な水準の塩基性を有する下記式(1)で示されるウレア(urea)化合物を添加剤として導入し、外部大気中に存在するアミンによる影響を減少させることにより、KrF、ArF、EUV等の光源を利用したリソグラフィー工程において、露光後遅延によりパターンが形成されないか、T-topが形成されるのを効果的に防止する。【化1】前記式(1)で、Aは前記式(2)又はR7であり、Rは、C1〜C20直鎖又は側鎖アルキレン、アリーレン、エーテル結合を含むアルキレン、又はエーテル結合を含むアリーレンであり、R1からR7はそれぞれ水素、C1〜C20直鎖又は側鎖アルキル、アリールグループであり、R1及びR2、R5及びR6、R3及びR7は環構造に連結された構造を有することもできる。

請求項（抜粋）：

フォトレジスト組成物の露光後遅延(post exposure delay)安定性を確保するための添加剤であって、下記式(1)で示される化合物であることを特徴とする添加剤。【化1】(前記式(1)で、Aは前記式(2)又はR7であり、Rは、置換又は非置換された炭素数C1〜C20の直鎖又は側鎖アルキレン、置換又は非置換された炭素数C1〜C20のアリーレン(arylene)、エーテル結合(ether linkage)を含む置換又は非置換された炭素数C1〜C20の直鎖又は側鎖アルキレン、又はエーテル結合を含む置換又は非置換された炭素数C6〜C20のアリーレンであり、R1からR7はそれぞれ水素、置換又は非置換された炭素数C1〜C20の直鎖又は側鎖アルキル、或いは置換又は非置換された炭素数C1〜C20のアリールグループであり、R1及びR2、R5及びR6、R3及びR7は環構造に連結された構造を有することもできる。)

IPC (10件)：

G03F 7/039 601 ,  C07C273/18 ,  C07C275/06 ,  C07C275/28 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/21 ,  C08L 45/00 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027 ,  C07D487/08

FI (10件)：

G03F 7/039 601 ,  C07C273/18 ,  C07C275/06 ,  C07C275/28 ,  C08K 5/00 ,  C08K 5/21 ,  C08L 45/00 ,  G03F 7/004 501 ,  C07D487/08 ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-353286   出願人：ジェイエスアール株式会社, 大阪有機化学工業株式会社
• 特開昭62-179580
  
• 特開平3-181543
  
• 特開昭63-179998
  
• 特開昭58-065438
  
• 感放射線性樹脂組成物および有機EL素子の絶縁膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-226468   出願人：ジェイエスアール株式会社