特許
J-GLOBAL ID:200903086783796829
感放射線性樹脂組成物
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
福沢 俊明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-353286
公開番号(公開出願番号):特開平10-177247
出願日: 1996年12月17日
公開日(公表日): 1998年06月30日
要約:
【要約】【課題】 感度、解像度およびパターン形状が優れるとともに、PED安定性に優れ、高精度の微細なレジストパターンを安定して形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】 組成物は、(A)ビニルフェノールに代表される単量体に由来する繰返し単位と2-(フェノキシカルボニル)エチル(メタ)アクリレートに代表される単量体に由来する繰返し単位とを有する共重合体、および(B)感放射線性酸発生剤を含有する。
請求項(抜粋):
(A)下記一般式(1)で表される繰返し単位(1)と下記一般式(2)で表される繰返し単位(2)とを有する共重合体、および(B)感放射線性酸発生剤を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。【化1】〔一般式(1)において、R1は水素原子またはメチル基を示す。〕【化2】〔一般式(2)において、R2、R3およびR4はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を示し、R5は炭素数1〜6のアルキレン基または炭素数2〜6のアルキリデン基を示し、R6は炭素数1〜10の直鎖状あるいは分岐状のアルキル基、炭素数1〜10の直鎖状あるいは分岐状のハロゲン化アルキル基、炭素数3〜11の環状アルキル基、炭素数6〜10のアリール基または炭素数7〜11のアラルキル基を示し、nは0〜5の整数である。〕
IPC (5件):
G03F 7/004 503
, G03F 7/033
, G03F 7/039 501
, G03F 7/039 601
, H01L 21/027
FI (5件):
G03F 7/004 503 A
, G03F 7/033
, G03F 7/039 501
, G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
引用特許: