チップ及びライブラリの大量製造における物質溶液の静電噴霧

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉村暁秀 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-504841
公開番号（公開出願番号）：特表2002-511792
出願日： 1998年06月19日
公開日（公表日）： 2002年04月16日
要約：

【要約】基体表面上にスポットまたはフィルムの形態として、巨大生体分子を含む不揮発性物質の堆積物を、静電噴霧によって製造する方法であって、この堆積物は、不揮発性物質の堆積物の他の物質への相互作用を測定するために使用される。この方法は、単一の配列における単一チップ及び複数成分の微小試料の大量製造をも含むものである。

請求項（抜粋）：

生物学的機能および/または生物学的活性を有する不揮発性物質の堆積物を基体上に製造する方法であって、生物学的機能および/または生物学的活性な物質の溶液を静電噴霧させて、生物学的機能および/または生物学的活性を有する不揮発性物質を基体表面上に堆積させるステップを有するもの。

IPC (7件)：

B05B 5/025 , B05B 12/00 , B05D 1/04 , B05D 5/12 , C07B 61/00 ZCC , C12M 1/00 , C12N 15/09

FI (7件)：

B05B 5/025 Z , B05B 12/00 Z , B05D 1/04 H , B05D 5/12 B , C07B 61/00 ZCC A , C12M 1/00 A , C12N 15/00 F

引用特許：

出願人引用 (8件)

静電噴霧被覆装置および方法
公報種別：公表公報出願番号：特願平6-508498 出願人：ミネソタマイニングアンドマニュファクチャリングカンパニー
特開昭63-069555
特開昭62-197071

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審査官引用 (15件)

静電噴霧被覆装置および方法
公報種別：公表公報出願番号：特願平6-508498 出願人：ミネソタマイニングアンドマニュファクチャリングカンパニー
特開昭63-069555
特開昭63-069555

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