特許
J-GLOBAL ID：200903081264879464
電子材料用洗浄水
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内山 充
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-006221
公開番号（公開出願番号）：特開平11-204485
出願日： 1998年01月16日
公開日（公表日）： 1999年07月30日
要約：
【要約】【課題】電子材料のウェット洗浄において、金属不純物や自然酸化膜とともに、微粒子汚染も同時に除去することができる電子材料用洗浄水を提供する。【解決手段】フッ化水素及び水素ガス、フッ化水素及び酸素ガス、フッ化水素、塩化水素若しくは硝酸及び水素ガス、又は、フッ化水素、塩化水素若しくは硝酸及び酸素ガスを溶解した水溶液からなることを特徴とする電子材料用洗浄水。
請求項（抜粋）：
フッ化水素及び水素ガスを溶解した水溶液からなることを特徴とする電子材料用洗浄水。
IPC (3件)：
H01L 21/304 647
, B08B 3/08
, C11D 7/02
H01L 21/304 647 Z
, B08B 3/08 Z
, C11D 7/02
