特許
J-GLOBAL ID：200903081334528931

薄膜形成方法、光学フィルム、偏光板及び画像表示装置

発明者：
村上 隆

村上 隆 について

, 
福田 和浩

福田 和浩 について


出願人/特許権者：
コニカ株式会社

コニカ株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-127649
公開番号（公開出願番号）：特開2002-322558
出願日： 2001年04月25日
公開日（公表日）： 2002年11月08日
要約：
【要約】【課題】 連続処理に適しており、安価に多層の薄膜を均一に形成する方法を提供し、更にこの方法で表面に薄膜を形成した光学フィルム、これを用いた偏光板や画像表示装置を提供する。【解決手段】 裏面の動摩擦係数が0.9以下である基材フィルム、抗張力が1.4×102N/mm2以上の基材フィルム、水分率が4%以下の基材フィルム、あるいは金属支持体からウェブを剥離後幅方向に延伸した基材フィルムの表面に、大気圧もしくは大気圧近傍の圧力下にある電極間隙に反応ガスを供給しながらプラズマ放電処理をすることを特徴とする薄膜形成方法。
請求項（抜粋）：
裏面の動摩擦係数が0.9以下である基材フィルムの表面に、大気圧もしくは大気圧近傍の圧力下にある電極間隙に反応ガスを供給しながらプラズマ放電処理をすることを特徴とする薄膜形成方法。
IPC (4件)：
C23C 14/22 ,  B01J 19/08 ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/30
FI (4件)：
C23C 14/22 Z ,  B01J 19/08 H ,  G02B 5/30 ,  G02B 1/10 Z
Fターム (30件)：
2H049BA02 ,  2H049BB33 ,  2K009AA02 ,  2K009BB28 ,  2K009CC09 ,  2K009CC12 ,  2K009CC24 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  2K009DD05 ,  2K009DD09 ,  2K009DD17 ,  4G075AA24 ,  4G075BC01 ,  4G075CA47 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EC21 ,  4G075ED04 ,  4G075ED06 ,  4G075EE12 ,  4G075FB12 ,  4K029AA11 ,  4K029BA48 ,  4K029BB02 ,  4K029BC07 ,  4K029CA12 ,  4K029JA10 ,  4K029KA03
引用特許：
審査官引用 (4件)
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