特許
J-GLOBAL ID:200903081352755937
光ディスクの製造方法および装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
岡部 正夫 (外10名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-274651
公開番号(公開出願番号):特開2003-085836
出願日: 2001年09月11日
公開日(公表日): 2003年03月20日
要約:
【要約】【課題】 ディスクに連続する2層以上の放射線硬化型樹脂層を形成する工程を含んだ光ディスク製造を行う装置の構成を簡略化する。【解決手段】 製造装置は、光ディスク上に第1の放射線硬化型の液状材料をコーティングして第1の層を形成する第1のコーティング手段と、ディスク上の第1の層の上に第2の放射線硬化型の液状材料をコーティングして第2の層を形成する第2のコーティング手段と、第1のコーティング手段による第1の層のコーティング後および第2のコーティング手段による第2の層のコーティング後にディスクに前記第1および第2の放射線硬化型液状材料を硬化させる作用を持つ放射線を照射する単一の放射線照射手段とを有する。
請求項(抜粋):
光ディスクの製造装置であって、光ディスク上に第1の放射線硬化型の液状材料をコーティングして第1の層を形成する第1のコーティング手段と、前記ディスク上の第1の層の上に第2の放射線硬化型の液状材料をコーティングして第2の層を形成する第2のコーティング手段と、前記第1のコーティング手段による第1の層のコーティング後および前記第2のコーティング手段による第2の層のコーティング後にディスクに前記第1および第2の放射線硬化型液状材料を硬化させる作用を持つ放射線を照射する単一の放射線照射手段と、を有することを特徴とする光ディスクの製造装置。
IPC (2件):
G11B 7/26 531
, G11B 7/24 535
FI (2件):
G11B 7/26 531
, G11B 7/24 535 K
Fターム (16件):
5D029LB13
, 5D121AA04
, 5D121EE22
, 5D121EE24
, 5D121EE27
, 5D121EE28
, 5D121GG02
, 5D121GG07
, 5D121GG20
, 5D121GG28
, 5D121JJ02
, 5D121JJ03
, 5D121JJ04
, 5D121JJ07
, 5D121JJ08
, 5D121JJ09
引用特許:
出願人引用 (6件)
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特開平3-219444
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特開昭60-261046
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光記録媒体及び光学ディスク装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-130713
出願人:ソニー株式会社
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審査官引用 (4件)