特許
J-GLOBAL ID:200903081360498625

再帰反射性を有する反射体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-197454
公開番号(公開出願番号):特開2000-028811
出願日: 1998年07月13日
公開日(公表日): 2000年01月28日
要約:
【要約】【課題】自浄性を有し、表面に付着する汚染物質が洗浄されて反射性能を長期にわたった維持することができ、且つ製造の容易な再帰反射性を有する反射体及びその製造方法を提供する。【解決手段】裏面がプリズム11加工されて表面より入射した光が前記プリズム11により光源方向に再帰反射されるようになされたプリズム反射体1の表面に保護フイルム2を被着し、保護フイルム2は、基材21にシリコーンハードコート層23を形成すると共に外面に光触媒含有層24を形成する。保護フイルム2の表面が光触媒含有層24の光触媒の活性化によって親水化されているので、汚染物質が効果的に洗浄される。しかもこの保護フイルム2によって自浄性を付与しているので、極めて製作が容易であり、且つ長期に渡って自浄性を維持することができ、さらにフイルムとしてのプリズム反射体1の保護をも兼ね備えている。
請求項(抜粋):
裏面がプリズム加工されて表面より入射した光が前記プリズムにより光源方向に再帰反射されるようになされたプリズム反射体の表面に保護フイルムが被着され、前記保護フイルムは、基材にシリコーンハードコート層が形成されると共に外面に光触媒含有層が形成されたことを特徴とする再帰反射性を有する反射体。
IPC (4件):
G02B 5/124 ,  B01J 35/02 ,  E01F 9/00 ,  G09F 13/16
FI (4件):
G02B 5/124 ,  B01J 35/02 J ,  E01F 9/00 ,  G09F 13/16 A
Fターム (36件):
2D064AA03 ,  2D064AA22 ,  2D064BA05 ,  2D064BA08 ,  2D064CA03 ,  2D064CA04 ,  2D064CA05 ,  2D064CA07 ,  2D064DA06 ,  2D064EB25 ,  2D064HA01 ,  2D064JA01 ,  2H042EA03 ,  2H042EA12 ,  2H042EA13 ,  2H042EA14 ,  2H042EA17 ,  2H042EA18 ,  2H042EA19 ,  4G069AA20 ,  4G069BA48A ,  4G069BC50B ,  4G069CD10 ,  5C096AA02 ,  5C096AA27 ,  5C096AA29 ,  5C096BA03 ,  5C096BB22 ,  5C096CB06 ,  5C096CE03 ,  5C096CE25 ,  5C096CG11 ,  5C096EB05 ,  5C096EB08 ,  5C096EB18 ,  5C096FA03
引用特許:
審査官引用 (2件)

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