特許
J-GLOBAL ID：200903081434200054

処理装置,処理方法及び蓄熱器

発明者：
岡崎 謙也

岡崎 謙也 について

, 
杉浦 洋二

杉浦 洋二 について

, 
二宮 孝

二宮 孝 について


出願人/特許権者：
DOWAホールディングス株式会社

DOWAホールディングス株式会社 について


代理人 (4件)： 萩原 康司 ,  金本 哲男 ,  亀谷 美明 ,  和田 憲治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-289243
公開番号（公開出願番号）：特開2007-101021
出願日： 2005年09月30日
公開日（公表日）： 2007年04月19日
要約：
【課題】吸熱反応が生じても,処理炉内を効率的に加熱できる処理装置及び処理方法を提供する。さらに,かかる処理装置及び処理方法において好適に用いられる蓄熱器を提供する。【解決手段】被処理体を吸熱反応によって処理する処理装置1において,被処理体が投入される処理炉2と,処理炉2内に処理ガスを供給する供給路3と,処理炉2内から排ガスを排出させる排出路4を備えた。また,処理ガスを加熱するヒーター11を備えた。さらに,排出路4には,排ガスの熱を蓄熱する蓄熱器15と,蓄熱器15を通過した排ガスと供給路3を通過する処理ガスとの間で熱交換を行わせる熱交換器10とを設けた。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被処理体を吸熱反応によって処理する処理装置であって, 被処理体が投入される処理炉と,前記処理炉内に処理ガスを供給する供給路と,前記処理炉内から排ガスを排出させる排出路と,前記処理ガスを加熱するヒーターとが備えられ, 前記排出路に,前記排ガスの熱を蓄熱する蓄熱器と,前記蓄熱器を通過した排ガスと前記処理ガスとの間で熱交換を行わせる熱交換器とが設けられていることを特徴とする,処理装置。
IPC (4件)：
F27D 17/00 ,  F28D 20/00 ,  C21B 13/00 ,  C22B 5/12
FI (4件)：
F27D17/00 101A ,  F28D20/00 A ,  C21B13/00 ,  C22B5/12
Fターム (15件)：
4K001AA10 ,  4K001BA05 ,  4K001GA01 ,  4K001GA19 ,  4K001GB09 ,  4K001GB10 ,  4K001HA09 ,  4K012DA04 ,  4K012DA05 ,  4K056AA01 ,  4K056BA03 ,  4K056CA07 ,  4K056DA02 ,  4K056DA27 ,  4K056DA36
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (6件)
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