特許
J-GLOBAL ID：200903081465352049
微細構造物の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-247696
公開番号（公開出願番号）：特開平11-079900
出願日： 1997年08月27日
公開日（公表日）： 1999年03月23日
要約：
【要約】【課題】 線径数10nmの線材を得る。【解決手段】 電子ビーム16を基材12の端部に照射し、基材12を溶解させた後、ビームを基材12から離れる方向に移動させる。これによって、基材12からの原子が電子ビーム16により引き出される。これによって、基材12と電子ビーム16間の空間にワイヤ20が形成される。
請求項（抜粋）：
電子ビームで基材表面を照射している状態で、基材または電子ビームを移動させて基材と電子ビームの相対的距離を徐々に増大させ、基材と電子ビームの間に基材の材質からなる線材を成長させることを特徴とする微細構造物の形成方法。
引用特許：
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