特許
J-GLOBAL ID:200903081485747821
ナノクリスタライトの調製
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
山本 秀策
, 安村 高明
, 森下 夏樹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-548750
公開番号(公開出願番号):特表2004-515441
出願日: 2001年12月06日
公開日(公表日): 2004年05月27日
要約:
本発明は、ナノクリスタライトを製造する方法を特徴とする。このナノクリスタライトは、150Å未満の直径を有する。このナノクリスタライトは、狭いサイズ分布を有するナノクリスタライトのメンバーであり得る。このナノクリスタライトは、球形、棒形、円盤形または他の形状であり得る。このナノクリスタライトは、半導体材料のコアを含み得る。コアは、このコアの表面上にオーバーコーティングを有し得る。このオーバーコーティングは、このコアの組成とは異なる組成を有する半導体材料であり得る。
請求項(抜粋):
ナノクリスタライトを製造する方法であって、該方法は、以下:
金属MまたはM含有塩、および還元剤を接触させて、M含有前駆体を形成する工程であって、ここで、Mは、Cd、Zn、Mg、Hg、Al、Ga、InまたはTlである、工程;
該M含有前駆体を、Xドナーと接触させて、混合物を形成する工程であって、ここで、Xは、O、S、Se、Te、N、P、AsまたはSbである、工程;および
アミンの存在下で該混合物を加熱して、ナノクリスタライトを形成する、工程、
を包含する、方法。
IPC (1件):
FI (3件):
C01B19/04 A
, C01B19/04 C
, C01B19/04 G
引用特許:
審査官引用 (3件)
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半導体超微粒子の製造方法および組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-181157
出願人:三井東圧化学株式会社
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高発光の色-選択材料
公報種別:公表公報
出願番号:特願2000-521557
出願人:マサチューセッツインスティテュートオブテクノロジー
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特開昭58-145606
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