成膜装置及びその使用方法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：浅井章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-329857
公開番号（公開出願番号）：特開平9-143674
出願日： 1995年11月24日
公開日（公表日）： 1997年06月03日
要約：

【要約】【課題】メイン処理以外の補助処理を行なうに際して、外部との間で被処理体の搬入・搬出操作を行なわなくて済む処理装置を提供する。【解決手段】被処理体Wに成膜処理を施す処理室22の前段に、真空状態に維持されて、更にその前段より搬送されてくる被処理体を前記処理室に対して搬入・搬出させるための搬送室24を有する成膜装置において、前記搬送室に、クリーニング用ダミー被処理体DW1と、カラデポジション用ダミー被処理体DW2と、モニタ用ダミー被処理体DW3と、ダミーラン用ダミー被処理体DW4の内、少なくとも2種類のダミー被処理体を収容するためのダミー被処理体収容室26を前記搬送室と連通状態となるように連設するように構成する。そして、補助処理を行なう場合には、外部からではなく、ダミー被処理体収容室からダミー被処理体を取り込んで、処理を行なう。これにより、搬入・搬出操作に伴う時間的損失を最小限にする。

請求項（抜粋）：

被処理体に成膜処理を施す処理室と、この処理室に対して前記被処理体を搬入・搬出可能に設けられた搬送室を有する成膜装置において、前記処理室内のクリーニング処理を行なう時に用いるクリーニング用ダミー被処理体と、前記処理室の内壁面を保護するためのカラデポジション処理を行なう時に用いるカラデポジション用ダミー被処理体と、前記成膜による膜厚等を検査するためにモニタ処理を行なう時に用いるモニタ用ダミー被処理体と、前記成膜装置自体を安定化させるためのダミーラン処理を行なう時に用いるダミーラン用ダミー被処理体と、これらダミー被処理体の内、少なくとも2種類のダミー被処理体を収容するためのダミー被処理体収容室を前記搬送室と連通状態となるように連設するように構成したことを特徴とする成膜装置。

IPC (7件)：

C23C 14/00 , C23C 14/56 , H01L 21/203 , H01L 21/205 , H01L 21/31 , H01L 21/68 , H05H 1/46

FI (10件)：

C23C 14/00 B , C23C 14/56 F , H01L 21/203 Z , H01L 21/205 , H01L 21/31 C , H01L 21/31 D , H01L 21/68 A , H05H 1/46 L , H05H 1/46 C , H05H 1/46 B

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平2-065252
特開平4-286112
プラズマ測定方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-055358 出願人：株式会社神戸製鋼所

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