特許
J-GLOBAL ID：200903081520866278

チタン化合物膜が被覆された物品、その物品の製造方法及びその膜を被覆するために用いるスパッタリングターゲット

発明者：
木島 義文

木島 義文 について

, 
安崎 利明

安崎 利明 について


出願人/特許権者：
日本板硝子株式会社

日本板硝子株式会社 について


代理人 (1件)： 大野 精市
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-121539
公開番号（公開出願番号）：特開2003-313660
出願日： 2002年04月24日
公開日（公表日）： 2003年11月06日
要約：
【要約】【課題】 板状ガラスなどの基体表面に、反応性スパッタリング法でチタン化合物膜を成膜する際の、小さな成膜レートや、アーキングが発生するために高出力を投入できないという難点を解決する。【解決手段】 従来の金属チタンターゲットに替えて、炭素化チタンターゲットを使用し、スパッタリング法によって基体上にチタン化合物膜を形成する製造方法及びチタン化合物膜が被覆された物品及びその膜を被覆するために用いるスパッタリングターゲットの提供。炭素化チタンターゲット中の炭素量は1〜60原子%が好ましく、ニオブ、タンタル、鉄、亜鉛、モリブデン等の金属を添加しても良い。
請求項（抜粋）：
反応性スパッタリング法による基体上へのチタン化合物膜の成膜において、炭素化チタンターゲットを用いることを特徴とするチタン化合物膜被覆物品の製造方法。
IPC (6件)：
C23C 14/34 ,  B01J 35/02 ,  C03C 17/22 ,  C03C 17/245 ,  C23C 14/08 ,  C23C 14/22
FI (6件)：
C23C 14/34 A ,  B01J 35/02 J ,  C03C 17/22 Z ,  C03C 17/245 A ,  C23C 14/08 E ,  C23C 14/22 B
Fターム (31件)：
4G059AA01 ,  4G059AC30 ,  4G059EA01 ,  4G059EA04 ,  4G059EA11 ,  4G059EA12 ,  4G059GA01 ,  4G059GA04 ,  4G059GA12 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069BC35B ,  4G069BC55B ,  4G069BC56B ,  4G069BC66B ,  4G069EA08 ,  4G069FB02 ,  4K029AA09 ,  4K029BA02 ,  4K029BA16 ,  4K029BA34 ,  4K029BA48 ,  4K029BA60 ,  4K029BC00 ,  4K029BC07 ,  4K029CA06 ,  4K029CA08 ,  4K029DC03 ,  4K029DC05
引用特許：
審査官引用 (5件)
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