特許
J-GLOBAL ID：200903081553962787
検査方法および検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
板垣 孝夫
, 森本 義弘
, 笹原 敏司
, 原田 洋平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-206620
公開番号（公開出願番号）：特開2006-029876
出願日： 2004年07月14日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：
【課題】繰り返しピッチが場所によって連続的に変化する場合でも、その連続変化に対して欠陥の誤検出をなくし、欠陥の検出精度を向上させることができる検査方法および検査装置を提供する。【解決手段】PDPなどの繰り返しパターンを有する検査対象物11を撮像するCCDカメラなどの撮像手段12と、繰り返しピッチ離れた画素とその隣の画素の輝度値を重み付けを行って比較画素の輝度値を補間しその補間輝度値と注目画素との差分をとることで、繰り返しパターンを除去して欠陥検査を行う画像処理手段13と、検出した欠陥を表示する検査結果表示手段14とを有する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
繰り返しパターンを持つ検査対象物を撮像して前記検査対象物の良否を判定する検査方法であって、前記繰り返しパターンのピッチが前記撮像のための撮像素子における画素ピッチの整数倍でない場合に、前記繰り返しパターンの各パターンに対応する画素の輝度値を比較し、その比較結果に基づいて前記繰り返しパターンを除去して前記良否を判定することを特徴とする検査方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
2G051AA73
, 2G051AB02
, 2G051CA04
, 2G051EA08
, 2G051EA16
, 2G051ED11
