特許

J-GLOBAL ID：200903067930540342

繰り返しパターン消去方法、欠陥検査方法及び装置

発明者： 綾木 之裕 ,  湯川 典昭 ,  川野 肇 ,  吉井 宏治
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-051786
公開番号（公開出願番号）：特開2002-259951
出願日： 2001年02月27日
公開日（公表日）： 2002年09月13日
要約：

【要約】【課題】 従来のパターン消去処理を適用すると、本来、欠陥として残るべき線状欠陥部分が、パターン消去により消去されたり、パターンピッチのばらつきを有するパターンの場合、パターンを残すという問題点があった。【解決手段】 注目画素とこの注目画素と同じ列上に配置された比較画素群Aおよびその比較画素群Aとは垂直方向に配置された比較画素群Bとのそれぞれの濃度差から最も0に近い濃度差を求め、比較画素群Aに対する特定濃度差と比較画素群Bに対する特定濃度差を比較して0から遠い濃度差を決定し、最大濃度差をパターン消去画像における基準濃度に対して加えるパターン消去画像を生成する。

請求項（抜粋）：

被検査体を撮像して得られた濃淡画像中における繰り返しパターンを消去する方法であって、注目画素とこの注目画素と同じ列上に配置された比較画素群Aおよびその比較画素群Aとは垂直方向に配置された比較画素群Bとのそれぞれの濃度差から最も0に近い濃度差を求める特定濃度差決定工程と、比較画素群Aに対する特定濃度差と比較画素群Bに対する特定濃度差を比較して0から遠い濃度差を決定する最大濃度差決定工程と、最大濃度差をパターン消去画像における基準濃度に対して加えるパターン消去画像生成工程とを有することを特徴とする繰り返しパターン消去方法。

IPC (2件)：

G06T 1/00 305 ,  G06T 7/00 200

FI (2件)：

G06T 1/00 305 A ,  G06T 7/00 200 Z

Fターム (20件)：

5B057AA03 ,  5B057BA02 ,  5B057CA02 ,  5B057CA08 ,  5B057CA12 ,  5B057CA16 ,  5B057DA03 ,  5B057DB02 ,  5B057DB05 ,  5B057DB09 ,  5B057DC22 ,  5L096AA03 ,  5L096AA06 ,  5L096BA03 ,  5L096CA14 ,  5L096DA01 ,  5L096EA37 ,  5L096FA17 ,  5L096GA07 ,  5L096GA51

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 繰り返しパターン消去方法及びパターン欠陥検査装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-218606   出願人：松下電器産業株式会社
• 繰り返しパターン検出データの削除方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-229437   出願人：日立電子エンジニアリング株式会社
• 特許第2635758号