特許
J-GLOBAL ID：200903067930540342
繰り返しパターン消去方法、欠陥検査方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩橋 文雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-051786
公開番号（公開出願番号）：特開2002-259951
出願日： 2001年02月27日
公開日（公表日）： 2002年09月13日
要約：
【要約】【課題】 従来のパターン消去処理を適用すると、本来、欠陥として残るべき線状欠陥部分が、パターン消去により消去されたり、パターンピッチのばらつきを有するパターンの場合、パターンを残すという問題点があった。【解決手段】 注目画素とこの注目画素と同じ列上に配置された比較画素群Aおよびその比較画素群Aとは垂直方向に配置された比較画素群Bとのそれぞれの濃度差から最も0に近い濃度差を求め、比較画素群Aに対する特定濃度差と比較画素群Bに対する特定濃度差を比較して0から遠い濃度差を決定し、最大濃度差をパターン消去画像における基準濃度に対して加えるパターン消去画像を生成する。
請求項（抜粋）：
被検査体を撮像して得られた濃淡画像中における繰り返しパターンを消去する方法であって、注目画素とこの注目画素と同じ列上に配置された比較画素群Aおよびその比較画素群Aとは垂直方向に配置された比較画素群Bとのそれぞれの濃度差から最も0に近い濃度差を求める特定濃度差決定工程と、比較画素群Aに対する特定濃度差と比較画素群Bに対する特定濃度差を比較して0から遠い濃度差を決定する最大濃度差決定工程と、最大濃度差をパターン消去画像における基準濃度に対して加えるパターン消去画像生成工程とを有することを特徴とする繰り返しパターン消去方法。
IPC (2件)：
G06T 1/00 305
, G06T 7/00 200
G06T 1/00 305 A
, G06T 7/00 200 Z
5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057CA02
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057DA03
, 5B057DB02
, 5B057DB05
, 5B057DB09
, 5B057DC22
, 5L096AA03
, 5L096AA06
, 5L096BA03
, 5L096CA14
, 5L096DA01
, 5L096EA37
, 5L096FA17
, 5L096GA07
, 5L096GA51
出願人引用 (3件)
審査官引用 (5件)
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