特許

J-GLOBAL ID：200903081554941139

RFプラズマソース及び宇宙空間内における表面のプラズマ洗浄方法

発明者： ウエルドン・エス・ウイリアムソン ,  バーレット・リッペー ,  ジョン・ディー・ウイリアムズ
出願人/特許権者： ヒューズ・エアクラフト・カンパニー
代理人 (1件)： 鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-200457
公開番号（公開出願番号）：特開平7-109000
出願日： 1994年08月25日
公開日（公表日）： 1995年04月25日
要約：

【要約】【目的】洗浄される表面を損傷することなく、低パワー及び低ガス消費で、宇宙空間内において物体の表面から汚染物を除去する方法を提供する。【構成】汚染物と反応可能な実質的に空間電荷が中性のプラズマ90が生成され、表面スパッタエネルギーである典型的には20eVより低いエネルギーで、プラズマが汚染された表面へ指向され、プラズマと汚染物とが反応することにより、物体72表面から汚染物が除去される。RFプラズマソースは、プラズマチューブ2と、チューブへのガス供給系24と、チューブ2内で概ね軸方向の磁界を形成する永久磁石14、16と、チューブ2内でプラズマを維持するようにチューブ2内にヘリコン波を生成するためのRFアンテナ4とを有する。

請求項（抜粋）：

宇宙空間内で物体の表面から汚染物を洗浄除去する方法であって、前記汚染物と反応可能な実質的に空間電荷が中性のプラズマを生成する工程と、前記物体の表面スパッタエネルギーより低いエネルギーで、前記プラズマを前記汚染された表面へ指向させる工程と、前記プラズマと前記汚染物とを反応させ前記表面から前記汚染物を除去する工程と、を具備する方法。

IPC (5件)：

B64G 1/66 ,  B01J 19/08 ,  B08B 7/00 ,  C23G 5/00 ,  H01J 27/16

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-341591
  
• 基体の膜形成面清浄化方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-161427   出願人：日新電機株式会社
• 特開平2-077125