特許
J-GLOBAL ID：200903081594556980
テフロン(登録商標)の微細加工方法及び微細加工したテフロン部材
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 敬四郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-327545
公開番号（公開出願番号）：特開平8-183106
出願日： 1994年12月28日
公開日（公表日）： 1996年07月16日
要約：
【要約】【目的】 アスペクト比が高くかつ大面積の加工が容易なテフロンの微細加工技術を提供する。【構成】 放射光をテフロン表面に照射してテフロンを加工するテフロンの加工方法であって、テフロンで形成された部分を含む加工対象物を準備する工程と、放射光を実質的に透過させる領域と、実質的に透過させない領域がパターニングされたマスクを準備する工程と、少なくとも波長160nmの紫外線を含む放射光を、マスクを介して加工対象物の表面に照射する工程とを含む。
請求項（抜粋）：
放射光をテフロン表面に照射してテフロンを加工するテフロンの加工方法であって、テフロンで形成された部分を含む加工対象物を準備する工程と、前記放射光を実質的に透過させる領域と、実質的に透過させない領域がパターニングされたマスクを準備する工程と、少なくとも波長160nmの紫外線を含む放射光を、前記マスクを介して前記加工対象物の表面に照射する工程とを含むテフロンの加工方法。
IPC (3件)：
B29C 71/04
, B29C 59/16
, B29K 27:12
