特許
J-GLOBAL ID：200903081597600734
物体上の欠陥を再検査する装置及び方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中村 稔 (外9名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-219834
公開番号（公開出願番号）：特開2001-133417
出願日： 2000年06月15日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：
【要約】【課題】 物体上の欠陥を再検査するための装置及び方法を提供する。【解決手段】 装置は、物体を載せて受入れるステージ414、及び光学顕微鏡416及び走査型電子顕微鏡(SEM)420の両方を含む。光学顕微鏡は、物体表面上の予め地図化されている欠陥を再検出するために使用され、物体表面の選択された部分に向けて光ビームを導く照明源436を含む。光学顕微鏡は、明るいフィールド照明及び暗いフィールド照明の何れか、または両方を生成するように構成されている。一旦欠陥が再検出されると、並進システム422は、その欠陥がSEMによって再検査される位置に達するようにステージを所定の変位だけ運動させる。装置は、SEMによる再検査のために自動的に合焦させ、欠陥の変化するパースペクティブが得られるようにステージを回転させるように構成することができる。
請求項（抜粋）：
予め生成されている欠陥地図に基づいて物体表面上の欠陥を再検査するための装置であって、上記物体を載せて受入れるステージと、光ビームを発生する照明源を含み、上記欠陥地図内に含まれている情報に基づいて上記光ビームを上記物体表面の選択された部分に向けて導く光学顕微鏡と、上記光学顕微鏡に結合され、上記光ビームによって照明された欠陥を検出する光センサと、粒子のビームを規定された軸に沿って焦点に収斂させる粒子ビームイメージングシステムと、上記再検出された欠陥を、上記焦点の直近に位置決めする並進システムと、を備え、上記再検出された欠陥を、引続き上記粒子ビームイメージングシステムを使用して再検査できるようにしたことを特徴とする装置。
IPC (6件)：
G01N 21/956
, G01N 23/225
, H01J 37/147
, H01J 37/20
, H01J 37/28
, H01L 21/66
G01N 21/956 A
, G01N 23/225
, H01J 37/147 B
, H01J 37/20 D
, H01J 37/28 B
, H01L 21/66 J
