特許

J-GLOBAL ID：200903081677860990

洗浄装置

発明者： 上野 欽也 ,  熊谷 佳夫
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-347870
公開番号（公開出願番号）：特開平7-183262
出願日： 1993年12月24日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：

【要約】【目的】 薬液雰囲気拡散の防止をおこない、パーティクルの流入等を防止する。【構成】 側板によって形成された領域内に被処理体を洗浄する複数の処理槽を配列し、かつ前記処理槽の前面側に位置して前記被処理体を前記複数の処理槽の配列方向に沿って搬送する搬送装置を前記領域内に有する洗浄装置において、前記搬送装置に被処理体を搬送中の洗浄雰囲気の拡散を防止する雰囲気拡散防止機構を設けた。

請求項（抜粋）：

側板によって形成された領域内に被処理体を洗浄する複数の処理槽を配列し、かつ前記処理槽の前面側に位置して前記被処理体を前記複数の処理槽の配列方向に沿って搬送する搬送装置を前記領域内に有する洗浄装置において、前記搬送装置に被処理体を搬送中の洗浄雰囲気の拡散を防止する雰囲気拡散防止機構を設けたことを特徴とする洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/08

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 洗浄装置及び洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-182982   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 特開平2-010728