特許
J-GLOBAL ID:200903081698423485

超微粒子の製造方法及び製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 敬四郎 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-148006
公開番号(公開出願番号):特開平11-333288
出願日: 1998年05月28日
公開日(公表日): 1999年12月07日
要約:
【要約】【課題】 原料の性質を改質する超微粒子の製造方法と製造装置に関し、改質した超微粒子を効率的に得ることのできる超微粒子の製造方法および製造装置を提供する。【解決手段】 反応性ガスを含むガスのプラズマを発生させる工程と、原料を蒸発させ、ガス中を通過させることにより超微粒子を生成する工程と、前記反応性ガスを含むガスのプラズマ中を通過させることにより超微粒子を改質する工程と、超微粒子を移動するキャリア上に捕集し、連続的に回収する工程とを含む。
請求項(抜粋):
反応性ガスを含むガスのプラズマを発生させる工程と、原料を蒸発させ、ガス中を通過させることにより超微粒子を生成する工程と、前記反応性ガスを含むガスのプラズマ中を通過させることにより超微粒子を改質する工程と、超微粒子を移動するキャリア上に捕集し、連続的に回収する工程とを含む超微粒子の製造方法。
引用特許:
審査官引用 (7件)
  • 特開昭62-102828
  • 特開昭64-030636
  • 特開平3-008437
全件表示

前のページに戻る