極細線用フォトレジスト用ポリエステルフィルム

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)： ▲吉▼川俊雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-024197
公開番号（公開出願番号）：特開2000-221688
出願日： 1999年02月01日
公開日（公表日）： 2000年08月11日
要約：

【要約】【課題】透明性、滑り性、空気抜け性を同時に満足し、表面や端部のパターン形成性に優れるフォトレジスト層を形成可能な支持体としての極細線用フォトレジスト用ポリエステルフィルムを提供する。【解決手段】平均粒径0.01μm〜5.0μmの粒子の含有量が80ppm以下であり、平均粒径5.0μmを超える粒子を含有しない二軸配向ポリエステルフィルムの一方の面に、平均粒径0.01〜5.0μmの粒子を含有する、厚さ0.1〜1.0μmの樹脂層を積層したポリエステルフィルムであって、該ポリエステルフィルムのヘーズ(JIS K7105に準拠して測定)が1.0%以下である極細線用フォトレジスト用ポリエステルフィルム。

請求項（抜粋）：

平均粒径0.01μm〜5.0μmの粒子の含有量が80ppm以下であり、平均粒径5.0μmを超える粒子を含有しない二軸配向ポリエステルフィルムの一方の面に、平均粒径0.01〜5.0μmの粒子を含有する、厚さ0.1〜1.0μmの樹脂層を積層したポリエステルフィルムであって、該ポリエステルフィルムのヘーズ(JIS K7105に準拠して測定)が1.0%以下であることを特徴とする極細線用フォトレジスト用ポリエステルフィルム。

IPC (9件)：

G03F 7/09 501 , B32B 27/18 , B32B 27/36 , C08J 5/18 CFD , C08J 7/04 CFD , C08K 5/00 , C08L101/16 , G03F 7/004 512 , C08L 67:02

FI (8件)：

G03F 7/09 501 , B32B 27/18 D , B32B 27/36 , C08J 5/18 CFD , C08J 7/04 CFD D , C08K 5/00 , G03F 7/004 512 , C08L101/00

Fターム (64件)：

2H025AA00 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB11 , 2H025AB15 , 2H025DA19 , 2H025DA20 , 2H025DA21 , 4F006AA35 , 4F006AA55 , 4F006AB24 , 4F006AB35 , 4F006AB37 , 4F006AB54 , 4F006AB55 , 4F006AB66 , 4F006BA07 , 4F006CA08 , 4F006DA04 , 4F006EA05 , 4F006EA06 , 4F071AA43 , 4F071AD02 , 4F071AD06 , 4F071AF27 , 4F071AH13 , 4F071BC01 , 4F100AA20A , 4F100AA20B , 4F100AK01B , 4F100AK41A , 4F100AK41B , 4F100BA02 , 4F100BA16 , 4F100CA22B , 4F100DE01A , 4F100DE01B , 4F100EH46 , 4F100EJ38 , 4F100JK16 , 4F100JN01 , 4F100YY00 , 4J002AA00X , 4J002BG03W , 4J002CF00W , 4J002CF14W , 4J002CK02W , 4J002DD036 , 4J002DE136 , 4J002DE146 , 4J002DE236 , 4J002DG026 , 4J002DG046 , 4J002DH046 , 4J002DJ006 , 4J002DJ016 , 4J002DJ036 , 4J002DJ046 , 4J002EG036 , 4J002EV247 , 4J002FD01X , 4J002FD016 , 4J002FD107 , 4J002GP03

引用特許：

審査官引用 (2件)

フォトレジスト用積層ポリエステルフィルム
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-132000 出願人：ダイアホイルヘキスト株式会社
フォトマスク保護用粘着フイルム
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-066082 出願人：積水化学工業株式会社

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