特許
J-GLOBAL ID:200903081799085394

洗浄方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 山口 和 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-179416
公開番号(公開出願番号):特開2000-008095
出願日: 1998年06月25日
公開日(公表日): 2000年01月11日
要約:
【要約】【課題】 電子部品、プリント基板等の、溶剤による洗浄作業に際して、汚れ成分を効率的に除去でき、溶剤のロスが少なく、また引火性の危険のない安全な洗浄方法の提供。【解決手段】洗浄槽1、すすぎ槽2、汚れ除去槽3からなる洗浄装置を用い、被洗浄物品を、ハイドロフルオロカーボン或はハイドロフルオロエーテルもしくはその両者の混合物(第1溶剤)と、沸点がそれらより50°C以上高い有機液体(第2溶剤)とからなる洗浄剤を入れた洗浄槽中で洗浄して汚れを除去し、次いで第1溶剤を入れたすすぎ槽で被洗浄物品に付着した第2溶剤をすすいで除去するとともに、洗浄槽及びすすぎ槽中の内容液を連続的に汚れ除去槽に送り、汚れ除去槽内の洗浄剤中から汚れ成分を不溶化して除去し、清浄化された洗浄剤を洗浄槽に戻すことからなる物品の洗浄方法、及び上記洗浄方法を実施するための上記3つの槽からなる洗浄装置。
請求項(抜粋):
被洗浄物品を、ハイドロフルオロカーボン或はハイドロフルオロエーテルもしくはその両者の混合物(第1溶剤)と、沸点がそれらより50°C以上高い有機液体(第2溶剤)とからなる洗浄剤を満たした洗浄槽中で洗浄して汚れを除去し、次いで第1溶剤を満たしたすすぎ槽で被洗浄物品に付着した第2溶剤をすすいで除去するとともに、洗浄槽及びすすぎ槽中の内容液を連続的に汚れ除去槽に送り、汚れ除去槽内の洗浄剤中から汚れ成分を不溶化して除去し、清浄化された洗浄剤を洗浄槽に戻すことを特徴とする物品の洗浄方法。
IPC (6件):
C11D 7/50 ,  B08B 3/08 ,  C07C 19/08 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/30 ,  H01L 21/304 647
FI (6件):
C11D 7/50 ,  B08B 3/08 A ,  C07C 19/08 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/30 ,  H01L 21/304 647 A
Fターム (24件):
3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AA46 ,  3B201BB02 ,  3B201BB03 ,  3B201BB85 ,  3B201BB92 ,  3B201BB95 ,  3B201CC01 ,  3B201CD22 ,  4H003BA12 ,  4H003DA14 ,  4H003DA15 ,  4H003DB03 ,  4H003DC02 ,  4H003ED19 ,  4H003ED26 ,  4H003ED29 ,  4H003ED32 ,  4H003FA06 ,  4H003FA23 ,  4H006AA03 ,  4H006AB70 ,  4H006EA02
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 洗浄方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平9-003852   出願人:三井・デュポンフロロケミカル株式会社
  • 洗浄方法
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平8-248580   出願人:日本ゼオン株式会社
  • 洗浄装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-080766   出願人:三菱化成株式会社
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