特許

J-GLOBAL ID：200903081804684137

光導波路の製造方法

発明者： 松浦 孝 ,  室田 淳一 ,  宮原 健一郎 ,  野仲 徹 ,  三鍋 雄一郎
出願人/特許権者： 株式会社トクヤマ ,  松浦 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-201911
公開番号（公開出願番号）：特開2003-014966
出願日： 2001年07月03日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：

【要約】【課題】 基板上にコアパターンが形成された光導波路であって、クラッドとコアとの屈折率差が大きな光集積回路として好適に使用できる光導波路を、レジストパターンの形成・剥離、エッチングといった煩雑な操作を行うことなく簡便に製造する方法を提供する。【解決手段】 石英等の基板上に、例えばポリメチルシラザンと光酸発生剤の混合物からなる感光性材料の膜を形成した後、光導波路コアパターンを有するフォトマスクを用いて該膜を露光、現像して前記基板上に前記感光性材料からなるコアパターンを形成し、次いで該コアパターンを構成する前記感光性材料を例えばアルゴン雰囲気下に約900°Cで熱処理することにより安定化する共に高屈折率化して光導波路を形成する。

請求項（抜粋）：

基板上に感光性材料からなる膜を形成し、次いで該膜に光導波路コアパターンを露光し、その後コアパターンとなる前記感光性材料又はその誘導体を安定化することを特徴とする光導波路の製造方法。

IPC (2件)：

G02B 6/13 ,  G02B 6/12

FI (2件)：

G02B 6/12 M ,  G02B 6/12 N

Fターム (6件)：

2H047KA04 ,  2H047PA22 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047QA07