特許
J-GLOBAL ID：200903081831673627

微細パターン修正装置および微細パターンの欠陥修正方法

発明者：
猿田 正弘

猿田 正弘 について

, 
斎藤 馨

斎藤 馨 について


出願人/特許権者：
NTN株式会社

NTN株式会社 について

, 
オプトワン株式会社

オプトワン株式会社 について


代理人 (7件)： 深見 久郎 ,  森田 俊雄 ,  仲村 義平 ,  堀井 豊 ,  野田 久登 ,  酒井 將行 ,  渡辺 征一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-189890
公開番号（公開出願番号）：特開2006-007295
出願日： 2004年06月28日
公開日（公表日）： 2006年01月12日
要約：
【課題】 微細パターンの欠陥を短時間で修正することができ、装置価格が低く、装置設置面積が小さく、修正の品質が高い微細パターン修正装置を提供する。【解決手段】 この微細パターン修正装置は、レーザビームを照射して黒欠陥を除去するレーザ装置1、欠陥を観察する観察光学系2、インクを塗布して色抜け欠陥を修正するインク塗布ユニット3、および突起欠陥を研磨して修正するテープ研磨ユニット5を含む修正ヘッド部6と、修正ヘッド部6を位置決めするXYZテーブル7〜9と、被修正ガラス基板10を搭載するガラス定盤11とを備える。したがって、1台の装置で色抜け欠陥、黒欠陥および突起欠陥を修正することができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
基板上に形成された微細パターンの欠陥を修正する微細パターン修正装置であって、 修正液を欠陥に塗布する塗布ユニットと、レーザビームを照射して欠陥を除去するレーザ装置と、欠陥を観察する観察光学系と、欠陥を研磨するテープ研磨ユニットとを含む修正ヘッド部、 前記基板を搭載するワークテーブル、および 前記修正ヘッド部と前記ワークテーブルを相対移動させて3次元空間での位置決めを行う位置決め装置を備えた、微細パターン修正装置。
IPC (3件)：
B23K 26/00 ,  B23K 26/02 ,  B24B 21/00
FI (3件)：
B23K26/00 H ,  B23K26/02 C ,  B24B21/00 A
Fターム (11件)：
3C058AA05 ,  3C058CA01 ,  3C058CB03 ,  3C058CB05 ,  4E068AA01 ,  4E068AC00 ,  4E068CA12 ,  4E068CA16 ,  4E068CC06 ,  4E068CE05 ,  4E068DA09
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (4件)
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