特許
J-GLOBAL ID:200903081891920550

防汚性積層体およびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡辺 喜平 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-346239
公開番号(公開出願番号):特開2000-167993
出願日: 1998年12月04日
公開日(公表日): 2000年06月20日
要約:
【要約】【課題】 高い硬度を有し、酸素存在下においても光硬化反応により形成可能な防汚性樹脂層を含む防汚性積層体を提供する。【解決手段】 下記(A)および(B)成分を含有する光硬化性組成物を光硬化させた防汚性樹脂層を基材上に形成してなる防汚性積層体。(A)一般式(1)で示される加水分解性シラン化合物、その加水分解物、およびその縮合物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物(R1)PSi(X)4-P (1)[一般式(1)中、R1は炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。](B)光酸発生剤
請求項(抜粋):
下記(A)および(B)成分を含有する光硬化性組成物を光硬化させた防汚性樹脂層を基材上に形成してなる防汚性積層体。(A)一般式(1)で示される加水分解性シラン化合物、その加水分解物、およびその縮合物からなる群から選択される少なくとも一つの化合物(R1)PSi(X)4-P (1)[一般式(1)中、R1は炭素数が1〜12である非加水分解性の有機基、Xは加水分解性基、およびpは0〜3の整数である。](B)光酸発生剤
IPC (3件):
B32B 27/00 101 ,  C09D 5/16 ,  C09D183/04
FI (3件):
B32B 27/00 101 ,  C09D 5/16 ,  C09D183/04
Fターム (52件):
4F100AA20A ,  4F100AA20K ,  4F100AA21K ,  4F100AH06A ,  4F100AH06K ,  4F100AK01A ,  4F100AK17A ,  4F100AK17J ,  4F100AK17K ,  4F100AK21A ,  4F100AK45 ,  4F100AL01A ,  4F100AL01K ,  4F100AL05A ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100CA23A ,  4F100CA30A ,  4F100EJ65B ,  4F100GB07 ,  4F100JB14A ,  4F100JK12 ,  4F100JL06 ,  4F100JL09 ,  4F100JN01 ,  4J038CD092 ,  4J038CD102 ,  4J038CE052 ,  4J038CH252 ,  4J038CJ182 ,  4J038CL002 ,  4J038DL031 ,  4J038GA15 ,  4J038HA216 ,  4J038HA446 ,  4J038HA556 ,  4J038JA29 ,  4J038JA37 ,  4J038JA56 ,  4J038JA75 ,  4J038JC13 ,  4J038JC31 ,  4J038JC32 ,  4J038JC38 ,  4J038KA02 ,  4J038KA03 ,  4J038KA06 ,  4J038KA08 ,  4J038NA05 ,  4J038PA14 ,  4J038PA17 ,  4J038PC08
引用特許:
審査官引用 (8件)
  • カラー受像管
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-335459   出願人:株式会社東芝
  • 特開平4-261483
  • 特開平4-261483
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