特許
J-GLOBAL ID：200903081945977030

荷電粒子線装置およびプローブ制御方法

発明者：
福田 宗行

福田 宗行 について

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富松 聡

富松 聡 について

, 
志知 広康

志知 広康 について


出願人/特許権者：
株式会社日立製作所

株式会社日立製作所 について


代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-148583
公開番号（公開出願番号）：特開2001-324459
出願日： 2000年05月16日
公開日（公表日）： 2001年11月22日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】マイクロマニピュレーションにおける荷電粒子線装置と画像解析装置によるプローブ制御技術を提供する。【解決手段】プローブ制御装置4は、プローブに電圧を印加することで、プローブと試料3表面のコントラストを強調し荷電粒子線装置の2次粒子像から試料表面像の影響を除去した上で、観察像の画像解析によりプローブ位置を検出し、プローブ11を所望の位置に誘導する。
請求項（抜粋）：
荷電粒子銃と、上記荷電粒子銃から放出される荷電粒子線を集束するレンズと、偏向器と、荷電粒子を試料に照射して上記試料からの2次粒子を検出するための検出器と、上記試料を保持する試料台と、上記試料台の位置を制御する試料位置制御装置と、プローブと、プローブ制御装置とを備えた荷電粒子線装置において、上記検出器から得られる2次粒子観察像(以下観察像)から上記プローブの位置を検出し、かつ上記試料の表面像の影響を排除して上記プローブの位置を検出可能な画像解析手段と、上記検出結果に基づいてプローブを所望の位置に誘導する手段を設けたことを特徴とする荷電粒子線装置。
IPC (7件)：
G01N 23/225 ,  G21K 5/00 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/20 ,  H01J 37/22 502 ,  H01J 37/30 ,  H01L 21/66
FI (7件)：
G01N 23/225 ,  G21K 5/00 A ,  G21K 5/04 Z ,  H01J 37/20 Z ,  H01J 37/22 502 F ,  H01J 37/30 Z ,  H01L 21/66 J
Fターム (36件)：
2G001AA03 ,  2G001AA05 ,  2G001BA06 ,  2G001BA07 ,  2G001CA03 ,  2G001CA05 ,  2G001GA01 ,  2G001GA06 ,  2G001GA09 ,  2G001HA07 ,  2G001HA13 ,  2G001HA20 ,  2G001JA02 ,  2G001JA03 ,  2G001JA13 ,  2G001KA01 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001RA04 ,  4M106AA01 ,  4M106AA02 ,  4M106BA01 ,  4M106BA14 ,  4M106DD05 ,  4M106DD12 ,  4M106DD13 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ11 ,  4M106DJ19 ,  5C001AA03 ,  5C001AA08 ,  5C001BB07 ,  5C001CC08 ,  5C034AA02 ,  5C034AA03 ,  5C034AB04
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (3件)
  • 不良検査方法および装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-141353   出願人：株式会社日立製作所
  • 特許第2708547号
  • 特許第2708547号

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