特許
J-GLOBAL ID：200903081981611620
多結晶シリコン機械的加工物
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-207070
公開番号（公開出願番号）：特開平8-067510
出願日： 1994年08月31日
公開日（公表日）： 1996年03月12日
要約：
【要約】【目的】 機械的加工物であるにもかかわらず、表面が鉄原子で汚染されていない高純度の多結晶シリコンを得る。【構成】 表面の鉄原子濃度が単位表面積当り10,000原子/μm2以下である多結晶シリコン。多結晶シリコンを好適には王水、水および弗酸で順次洗浄する。例えば、硝酸:塩酸(容量比)=1:1の王水、水、1〜20重量%の弗酸でこの順に洗浄して製造する。
請求項（抜粋）：
表面の鉄原子濃度が単位表面積当り10,000原子/μm2以下であることを特徴とする多結晶シリコンの機械的加工物。
IPC (3件)：
C01B 33/02
, B08B 3/08
, C01B 33/037
