特許

J-GLOBAL ID：200903082006945041

電子線マスク及び電子線マスクを用いた露光装置及びその露光方法

発明者： 徳永 賢一
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 弘男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-226294
公開番号（公開出願番号）：特開平10-069067
出願日： 1996年08月28日
公開日（公表日）： 1998年03月10日
要約：

【要約】【課題】 メモリーセル領域やアレイ領域でのパターン位置精度を向上することができる電子線マスク及び電子線マスクを用いた露光装置及びその露光方法を提供すること。【解決手段】 電子線111を所望の形状に成形するための可変成形開口107及び複数の転写用開口108パターン群を有する電子線マスクにおいて、該可変成形開口107及び複数の転写用開口108群の各々の近傍に、該可変成形開口107及び複数の転写用開口108群の各々の位置を認識するための位置検出マーク201を形成し、前記位置検出マーク201を電子線マスクステージ上方に設置された光学系103により検出及び位置認識し、前記可変成形開口107及び複数の転写用開口108群の各々の被露光基板110上での相対的転写位置を補正する機能を有する。

請求項（抜粋）：

電子線を所望の形状に成形するための可変成形開口及び複数の転写用開口パターン群を有する電子線マスクにおいて、該可変成形開口及び複数の転写用開口群の各々の近傍に、該可変成形開口及び複数の転写用開口群の各々の位置を認識するための位置検出マークが形成されていることを特徴とする電子線マスク。

IPC (3件)：

G03F 1/16 ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/16 B ,  G03F 7/20 504 ,  H01L 21/30 541 R ,  H01L 21/30 541 K

引用特許：

審査官引用 (2件)

• アパーチヤ絞り及びその認識コード読み取り方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-217251   出願人：株式会社日立製作所
• 特開平4-288816