特許
J-GLOBAL ID:200903082018926786

紫外線照射装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 絹谷 信雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-343429
公開番号(公開出願番号):特開平10-190058
出願日: 1996年12月24日
公開日(公表日): 1998年07月21日
要約:
【要約】【課題】 局所に限定した照射が可能で、かつ小型化が容易で長期信頼性のある紫外線照射装置を提供する。【解決手段】 Ga,InまたはAlを少なくとも含んだ III族元素の窒化物半導体を用いて一方向に紫外線を発光する固体発光素子1を形成し、この発光素子1を対象物に臨ませて配置することにより、必要な部位のみに紫外線を照射し、無用な部位には照射しないような局所に限定した照射が可能となる。
請求項(抜粋):
Ga,InまたはAlを少なくとも含んだ III族元素の窒化物半導体を用いて一方向に紫外線を発光する固体発光素子を形成し、この発光素子を対象物に臨ませて配置したことを特徴とする紫外線照射装置。
IPC (3件):
H01L 33/00 ,  A61N 5/06 ,  F21M 1/00
FI (3件):
H01L 33/00 C ,  A61N 5/06 B ,  F21M 1/00 C
引用特許:
審査官引用 (12件)
  • 特開平1-136668
  • 特開平1-136668
  • 特開昭61-234878
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