特許

J-GLOBAL ID：200903082054750520

基板検査方法及び基板検査装置

発明者： 恒岡 正年
出願人/特許権者： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-332770
公開番号（公開出願番号）：特開2003-142019
出願日： 2001年10月30日
公開日（公表日）： 2003年05月16日
要約：

【要約】【課題】 十分な解像度の画像情報を取得することにより、基板の検査精度を向上することが可能な基板検査方法及び基板検査装置を提供する。【解決手段】 本発明に係る基板検査方法では、電子ビームを照射することにより検査対象領域S内の所定材料から出射される二次電子の収率が1より大きくなる第1の加速電圧と、二次電子の収率が1より小さくなる第2の加速電圧とを用いる。そして、一の走査ラインに沿って第1の加速電圧で電子ビームを照射し、一の走査ライン上の画像情報を取得する前に、少なくともその一の走査ライン上に第2の加速電圧で電子ビームを照射しておく。

請求項（抜粋）：

走査型電子顕微鏡装置を用い、複数の走査ラインに沿って順次電子ビームを照射して基板上の検査対象領域を走査し、出射される二次電子を検出して該検査対象領域の画像情報を取得する基板検査方法であって、前記電子ビームを照射することにより前記検査対象領域内の所定材料から出射される前記二次電子の収率が1より大きくなる第1の加速電圧と、該二次電子の収率が1より小さくなる第2の加速電圧とを用い、一の走査ラインに沿って前記第1の加速電圧で前記電子ビームを照射し、該一の走査ライン上の画像情報を取得する前に、少なくとも該一の走査ライン上に前記第2の加速電圧で前記電子ビームを照射しておくことを特徴とする基板検査方法。

IPC (4件)：

H01J 37/28 ,  G01R 31/02 ,  G01R 31/302 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

H01J 37/28 B ,  G01R 31/02 ,  H01L 21/66 J ,  G01R 31/28 L

Fターム (21件)：

2G014AA01 ,  2G014AB59 ,  2G014AC09 ,  2G014AC11 ,  2G132AA00 ,  2G132AF13 ,  2G132AL11 ,  4M106AA01 ,  4M106BA02 ,  4M106CA38 ,  4M106DB04 ,  4M106DB05 ,  4M106DB12 ,  4M106DB18 ,  4M106DB30 ,  4M106DJ04 ,  4M106DJ17 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20 ,  4M106DJ23 ,  5C033UU01

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 走査型電子顕微鏡
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-012845   出願人：株式会社東芝