特許
J-GLOBAL ID：200903082074327399

硬化性組成物、硬化物およびそれらの製法

発明者：
大内 克哉

大内 克哉 について


出願人/特許権者：
鐘淵化学工業株式会社

鐘淵化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-123398
公開番号（公開出願番号）：特開2003-321484
出願日： 2002年04月25日
公開日（公表日）： 2003年11月11日
要約：
【要約】【課題】反応性が良好で容易に製造でき、貯蔵安定性が良好であり、かつ低粘度で作業性に優れる硬化性組成物、それを硬化させてなる硬化物、およびそれらの製造方法を提供することである。【解決手段】下記一般式(I)【化1】(式中R1は水素原子あるいはメチル基を表す。)で表される一価の基あるいは/および下記式【化2】で表される二価の基を1分子中に少なくとも1個含有し、かつ下記式【化3】で表されSiH基と反応性を有する二価の基を1分子中に少なくとも1個含有する有機化合物(A)と、1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物(B)とを、ヒドロシリル化触媒(C)の存在下に部分的にヒドロシリル化反応させて得られる、SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合およびSiH基を含有する硬化性組成物とすること。
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)【化1】(式中R1は水素原子あるいはメチル基を表す。)で表される一価の基あるいは/および下記式【化2】で表される二価の基を1分子中に少なくとも1個含有し、かつ下記式【化3】で表されSiH基と反応性を有する二価の基を1分子中に少なくとも1個含有する有機化合物(A)と、1分子中に少なくとも2個のSiH基を含有する化合物(B)とを、ヒドロシリル化触媒(C)の存在下に部分的にヒドロシリル化反応させて得られる、SiH基と反応性を有する炭素-炭素二重結合およびSiH基を含有する硬化性組成物。
IPC (3件)：
C07F 7/21 ,  C08G 77/20 ,  C07B 61/00 300
FI (3件)：
C07F 7/21 ,  C08G 77/20 ,  C07B 61/00 300
Fターム (25件)：
4H039CA93 ,  4H039CF10 ,  4H049VN01 ,  4H049VP04 ,  4H049VQ02 ,  4H049VQ05 ,  4H049VQ20 ,  4H049VQ79 ,  4H049VR22 ,  4H049VS02 ,  4H049VS20 ,  4H049VS79 ,  4H049VT17 ,  4H049VT30 ,  4H049VU17 ,  4H049VV02 ,  4J035BA02 ,  4J035CA01K ,  4J035CA13N ,  4J035EA01 ,  4J035LA02 ,  4J035LB01 ,  4J035LB02 ,  4J035LB03 ,  4J035LB17
引用特許：
審査官引用 (3件)

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