特許

J-GLOBAL ID：200903082139934972

使用済みCMPスラリの再生方法

発明者： 瀬戸口 善宏 ,  肖 立新
出願人/特許権者： 日本バルカー工業株式会社
代理人 (1件)： 松本 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-305768
公開番号（公開出願番号）：特開2008-124213
出願日： 2006年11月10日
公開日（公表日）： 2008年05月29日
要約：

【課題】 従来技術よりもより簡易かつ安価に、そして、より確実に、使用済みCMPスラリからCMPスラリ新液とほぼ同等のCMPスラリを得る方法を提供する。 【解決手段】 本発明にかかる使用済みCMPスラリの再生方法は、使用済みCMPスラリ中の砥粒は溶かさないが異物粒子は溶解する溶解液を用いて使用済みCMPスラリに対しその異物粒子を溶解するための溶解処理を施す工程と、使用済みCMPスラリに含まれていた砥粒に対し砥粒からイオンを除去するためのリンス処理を施す工程と、前工程で得られた被処理液に対し固体と液体を分離するための固液分離処理を施す工程とを含む、ことを特徴とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

使用済みCMPスラリ中の砥粒は溶かさないが異物粒子は溶解する溶解液を用いて使用済みCMPスラリに対しその異物粒子を溶解するための溶解処理を施す工程と、使用済みCMPスラリに含まれていた砥粒に対し砥粒からイオンを除去するためのリンス処理を施す工程と、前工程で得られた被処理液に対し固体と液体を分離するための固液分離処理を施す工程とを含む、使用済みCMPスラリの再生方法。

IPC (4件)：

H01L 21/304 ,  B24B 57/02 ,  C02F 11/00 ,  C02F 11/12

FI (4件)：

H01L21/304 622E ,  B24B57/02 ,  C02F11/00 C ,  C02F11/12 C

Fターム (15件)：

3C047FF08 ,  3C047GG17 ,  4D059AA11 ,  4D059AA30 ,  4D059BE01 ,  4D059BE63 ,  4D059BH03 ,  4D059BK05 ,  4D059CC10 ,  4D059DA31 ,  4D059DA32 ,  4D059DA33 ,  4D059DA41 ,  4D059DA44 ,  4D059DB08

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 特許第3341601号公報
  
• 使用済み半導体研磨用スラリーの再生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-077239   出願人：野村マイクロ・サイエンス株式会社