特許
J-GLOBAL ID:200903082277137501

表面処理方法、表面処理装置、蒸着材料および表面処理された希土類系永久磁石

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 清水 善▲廣▼ (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-117771
公開番号(公開出願番号):特開2001-032062
出願日: 2000年04月19日
公開日(公表日): 2001年02月06日
要約:
【要約】【課題】 高い真空度を得るために長時間をかけたり、特別の装置を使用したりすることなく、アルミニウムのような易酸化性蒸着材料を希土類系永久磁石のような被処理物に安定に蒸着させるための表面処理方法、この方法を実施するために好適な表面処理装置などを提供すること。【解決手段】 易酸化性蒸着材料からなる蒸着被膜を被処理物の表面に形成する表面処理方法であって、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に蒸着制御ガスを供給した状態で前記蒸着材料を蒸発させることを特徴とする。
請求項(抜粋):
易酸化性蒸着材料からなる蒸着被膜を被処理物の表面に形成する表面処理方法であって、処理室内の少なくとも溶融蒸発部と被処理物の近傍に蒸着制御ガスを供給した状態で前記蒸着材料を蒸発させることを特徴とする表面処理方法。
IPC (2件):
C23C 14/24 ,  H01F 7/02
FI (3件):
C23C 14/24 R ,  C23C 14/24 D ,  H01F 7/02 Z
Fターム (17件):
4K029AA02 ,  4K029BA02 ,  4K029BA03 ,  4K029BA15 ,  4K029BA17 ,  4K029BA18 ,  4K029BA32 ,  4K029BC01 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029CA03 ,  4K029DA06 ,  4K029DB03 ,  4K029DB09 ,  4K029EA03 ,  4K029EA05 ,  4K029JA02
引用特許:
審査官引用 (7件)
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